Nikon TIRF 模組

Nikon TIRF 模組利用光學全反射原理產生之漸逝波(Evanescent Wave)，來激發貼近蓋玻片表 100nm 以內的螢光物質。 

物理現象

光線從折射率高介質穿過折射率相對低介質，當入射角度大於臨界值時，會產生完全反射回折射率高介質的現象；此時玻片表面產生漸逝波，離得愈遠，能量遞減愈快，所以只有在 100nm 內的螢光可被激發，有效降低非對焦面的背景訊號，進而得到戲劇性的高訊譟比影像。

特製物鏡 

 Plan Apo TIRF 60x 與 Plan Apo TIRF 100x 物鏡，具有超高解析度 N.A. 1.49，並可手動調整溫度校正環，避免鏡油因溫度變化折射率改變所產生的球面像差；其中，100x 物鏡更適合建構雷射光鉗系統(Laser Tweezers System)。

細胞結構觀察

(a)傳統螢光影像
(b)TIRF影像
(c)兩種影像套色疊加